真空熱處理爐 小型1200℃主要用途,參數(shù)
主要用途：適用于電子陶瓷與高溫結(jié)構(gòu)陶瓷的燒結(jié)、玻璃的精密退火與微晶化、晶體的精密退火、陶瓷釉料制備、粉末冶金、納米材料的燒結(jié)、金屬零件淬火及一切需快速升溫工藝要求的熱處理，是科研單位、高等院校、工礦企業(yè)理想的實驗和生產(chǎn)設(shè)備。
此款真空熱處理爐，連接有真空泵，可抽真空通惰性氣體等，專門設(shè)計用于對物料在真空狀態(tài)并通一定氣氛（如惰性氣體等）環(huán)境下進行燒結(jié)，***高溫度可以達到1800℃。此款真空熱處理爐采用氧化鋁纖維作為爐膛材料，以硅鉬棒或者硅碳棒為加熱元件，爐體設(shè)計是爐膛具有較好的真空密封性，爐體上安裝有氣體控制系統(tǒng)。
真空熱處理爐主要用途：高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫氣氛燒結(jié)、氣氛還原、 CVD 實驗、真空退火用的理想產(chǎn)品工礦企業(yè)理想的實驗和生產(chǎn)設(shè)備。
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真空熱處理爐詳細參數(shù);
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產(chǎn)品型號 | XGM-GAZ-1 |
爐 膛 | 進口高純氧化鋁多晶纖維固化爐膛，保溫性能好。 |
爐管尺寸 | Φ40/60/80/100/150/200mm |
加熱元件 | 進口硅碳棒 |
測溫元件 | S分度，單鉑銠 |
控溫方式 | 溫度控制系統(tǒng)采用人工智能調(diào)節(jié)技術(shù)，具有PID調(diào)節(jié)、自整定功能，30段升降溫程序 |
密封方式 | 不銹鋼法蘭擠壓密封 |
標配真空度 | -0.1Mpa（如需更高真空可選購不同真空系統(tǒng)） |
工作溫度 | ≤1350℃ |
***高溫度 | 1450℃ |
恒溫精度 | ±1℃ |
恒溫區(qū)長度 | 200/300/400/500/600/800/1000mm（可根據(jù)客戶要求定制） |
建議升溫速度 | 10-30℃/min |
額定功率 | 6KW |
工作電源 | AC220V/380V 50HZ/60HZ |
標準配件 | 密封法蘭1套，“O”型圈4個，管堵4個，高溫手套1副,坩堝鉤1把 |
可選購附件 | 爐架，供混氣系統(tǒng)，低、中、高真空系統(tǒng)，各種剛玉坩堝，剛玉管，計算機控制軟件，無紙記錄儀等。 |
溫度，爐管尺寸及爐管高溫區(qū)長度均可根據(jù)客戶要求定制!
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